Úvod do charakteristik hustoty cíle Zhenan wolfran

May 14, 2025

Zanechat vzkaz

Po slinutí a kování, hustotaTarget wolframmůže dosáhnout více než 19,1 g\/cm³. Vysoká hustota zajišťuje strukturální těsnost a stabilitu cíle. Vyšší hustota pomáhá poskytovat jednotný atomový únik během procesu nápravy, čímž se připravuje vysoce kvalitní filmy a zlepšuje výkon a trvanlivost produktu.

Podrobnosti o produktu s vysokou čistotou wolframu

High Purity w Sputtering Target company
Cílová slitina s vysokou čistotou wolframu
pure w sputtering target factory
Cíl wolframu s vysokou čistotou