Požadavky na čistotu:Cíle niobiumjsou používány v pole polovodiče, čistota musí být větší nebo rovná 99,99% (4N5) a v supravodivém poli větší nebo roven 99,999% (5N) a obsah nečistot (jako je Fe, O, N) musí být přísně kontrolován.
Řízení velikosti zrna: Optimalizujte strukturu zrn prostřednictvím směrového tuhnutí nebo technologie horkého izostatického lisování (HIP), aby se snížila kontaminace částic během rozprašování.
Displej s vysokou čistotou Niobium Target Detail Product
Cíl Niobium s vysokou čistotou
cíl niobium