Parametry tantalum cílového materiálu

Jan 22, 2025

Zanechat vzkaz

Cíl tantaluMateriál je materiál vyrobený z vysoce čistého kovu nebo slitiny tantalu, která se používá hlavně v různých procesech depozice tenkých filmů. Cíle Tantalum jsou známé svou vynikající odolností proti korozi, vysokou bodu tání a biokompatibilitu a jsou široce používány v mnoha high-tech polích, jako je elektronika, polovodiče, protikorzní povlaky a lékařské vybavení.

Fyzikální a chemické vlastnosti

Mezi hlavní fyzikální vlastnosti cílů tantalu patří:

Bod tání: 3290K (3017 stupňů)

Bod varu: 5731k (5458 stupňů)

Hustota: 16,68g/cm³

Tvrdost: vysoká tvrdost, tažnost a odolnost proti korozi

Chemická stabilita: Tantalum nereaguje s Aqua Regia, vhodný pro výrobu chemických zařízení a zdravotnických prostředků.

Podrobnosti o produktu s vysokou čistotou tantalum

ta metal sputtering target company
Čistý dodavatel TA SPRITING TALGE
tantalum metal sputtering target
Dodavatel cílového cíle TA Metal